近日,杭州鎵仁半導(dǎo)體有限公司聯(lián)合浙江大學(xué)杭州國(guó)際科創(chuàng)中心(簡(jiǎn)稱科創(chuàng)中心)先進(jìn)半導(dǎo)體研究院、硅及先進(jìn)半導(dǎo)體材料全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室使用鑄造法成功制備了高質(zhì)量4英寸氧化鎵單晶,并完成了4英寸氧化鎵晶圓襯底技術(shù)突破。
鑄造法是科創(chuàng)中心首席科學(xué)家楊德仁院士團(tuán)隊(duì)自主研發(fā)的、適用于氧化鎵單晶生長(zhǎng)的...  [詳內(nèi)文]
突破!4英寸鑄造法氧化鎵單晶研制獲得成功 |
作者 huang, Mia|發(fā)布日期 2023 年 08 月 18 日 17:27 | 分類 功率 |