根據(jù)藍馳創(chuàng)投官方消息,杭州鎵仁半導(dǎo)體有限公司(以下簡稱:鎵仁半導(dǎo)體)近日正式完成數(shù)千萬天使輪融資。該輪融資由藍馳創(chuàng)投領(lǐng)投,禹泉資本跟投;融資將用于強化團隊、加速氧化鎵襯底材料新方法及中試線研發(fā)。
據(jù)悉,氧化鎵是一種無機化合物。作為第四代半導(dǎo)體的代表,氧化鎵被視為“替代碳化硅和氮化鎵”的新一代半導(dǎo)體材料,具有禁帶寬度大(4.8 eV)、臨界擊穿場強高(8MV/cm)、導(dǎo)通特性幾乎是碳化硅的10倍、材料生長成本低于第三代半導(dǎo)體等優(yōu)勢,未來有望在通信、雷達、航空航天、高鐵動車、新能源汽車等領(lǐng)域得到應(yīng)用。
目前,各國半導(dǎo)體企業(yè)正爭先恐后布局氧化鎵。其中,中國已經(jīng)成長為一股不可忽視的力量。
據(jù)韓媒The Elec報道,根據(jù)AnA Patent對韓國、中國、美國、歐洲、日本等6個主要PCT國家/地區(qū)所持有的氧化鎵功率半導(dǎo)體元件有效專利分析,截至2021年9月共有1011件專利,其中中國擁有328件,日本擁有專利313件,兩國專利數(shù)量占總數(shù)的50%以上;而2021年9月至2022年11月新增的460件專利中,也大部分來自中國(240件)和日本(87件)。
今年以來,中國在氧化鎵領(lǐng)域也不斷取得突破:
2月,中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)微電子學(xué)院龍世兵教授課題組聯(lián)合中科院蘇州納米所加工平臺,分別采用氧氣氛圍退火和N離子注入技術(shù),首次研制出了氧化鎵垂直槽柵場效應(yīng)晶體管;
同月,中國電科46所成功制備出我國首顆6英寸氧化鎵單晶,達到國際最高水平;
3月,西安郵電大學(xué)由電子工程學(xué)院管理的新型半導(dǎo)體器件與材料重點實驗室陳海峰教授團隊成功在8吋硅片上制備出了高質(zhì)量的氧化鎵外延片。
此次獲得融資的鎵仁半導(dǎo)體成立于2022年9月,是一家專注于氧化鎵等超寬禁帶半導(dǎo)體單晶襯底及外延材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的科技型企業(yè)。據(jù)了解,鎵仁半導(dǎo)體開創(chuàng)了非導(dǎo)模法氧化鎵單晶生長新技術(shù),突破了國際市場對氧化鎵材料的壟斷,可提供具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)的氧化鎵單晶襯底材料。(化合物半導(dǎo)體市場 Winter整理)
更多SiC和GaN的市場資訊,請關(guān)注微信公眾賬號:集邦化合物半導(dǎo)體。