印度或?qū)⒎謩e新建一座碳化硅和氮化鎵晶圓廠

作者 | 發(fā)布日期 2024 年 08 月 15 日 17:50 | 分類 功率

8月14日,據(jù)外媒報(bào)道,L&T Semiconductor Technologies(LTSCT)計(jì)劃投資100億~120億美元,在未來5到10年內(nèi)在印度建立三個(gè)半導(dǎo)體制造工廠,分別專注于硅、碳化硅和氮化鎵技術(shù)。

LTSCT為L&T的全資子公司,是一家無晶圓廠公司。公司業(yè)務(wù)涵蓋MEMS傳感器、功率、模擬混合信號(hào)和射頻產(chǎn)品,以支持汽車、工業(yè)、能源和電信領(lǐng)域。

公司首席執(zhí)行官Sandeep Kumar表示,LTSCT從類似高通或聯(lián)發(fā)科的系統(tǒng)級(jí)芯片(SoC)設(shè)計(jì)公司向芯片制造實(shí)體的轉(zhuǎn)型,將建立在公司實(shí)現(xiàn)10億美元營收目標(biāo)的基礎(chǔ)之上。LTSCT預(yù)估這一營收目標(biāo)將在未來2~3年內(nèi)實(shí)現(xiàn),屆時(shí)將著手建設(shè)晶圓廠。

圖片來源:拍信網(wǎng)正版圖庫

Kumar進(jìn)一步解釋道,該公司涉足各種技術(shù),包括高端硅芯片以及中低端碳化硅和氮化鎵芯片。因此,隨著時(shí)間的推移,公司計(jì)劃建立三個(gè)不同的晶圓廠,每個(gè)晶圓廠都需要不同程度的投資。資金分配方面,LTSCT對硅的投資或?qū)⒊^100億美元,對碳化硅的投資額在10億美元以上,對氮化鎵的投資額則在5億美元左右。

“在硅材料方面,所有合作伙伴的細(xì)節(jié)都已就緒。在氮化鎵方面,已經(jīng)完成了一半工作,而碳化硅方面,在未來三個(gè)月內(nèi),公司將確定與誰合作。”Kumar補(bǔ)充道。

據(jù)悉,LTSCT的碳化硅芯片由兩家日本合作伙伴生產(chǎn),而基于氮化鎵的射頻和功率器件芯片將由格芯和中國臺(tái)灣的世界先進(jìn)生產(chǎn)。(集邦化合物半導(dǎo)體Rick編譯)

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