10月9日，日本材料廠商OXIDE宣布，已與日本晶圓代工廠JS Fundry達成戰(zhàn)略合作協(xié)議，雙方將在溶液法碳化硅領域展開深入合作。
OXIDE表示，近年來，為了實現(xiàn)高性能功率半導體，作為硅的下一代功率半導體材料，碳化硅、氮化鎵、氧化鎵等受到關注。OXIDE致力于溶液法碳化硅襯底的商業(yè)化。與以往的升華法相比，溶液法預計能夠制造出缺陷更少、質(zhì)量更高的碳化硅襯底。
OXIDE強調(diào)，為了將溶液法碳化硅功率半導體推向市場，除了襯底技術的研發(fā)，構建完整的制造價值鏈同樣至關重要。特別是拋光和外延工藝，它們直接影響著碳化硅功率半導體的性能。因此，OXIDE選擇與在功率半導體制造工藝領域擁有豐富經(jīng)驗和技術的JS Foundry進行合作。
資料顯示，JS Foundry是由日本基金Mercuria Investment及并購咨詢公司產(chǎn)業(yè)創(chuàng)成咨詢(Sangyo Sosei Advisory)等聯(lián)合收購美國半導體大廠安森美半導體的新瀉工廠后，于2022年12月1日成立的晶圓代工企業(yè)。
source：JS Foundry
JS Foundry從事模擬功率半導體的前處理、背面處理、外延層、芯片尺寸封裝等加工和制造。目前，JS Foundry計劃擴展現(xiàn)有產(chǎn)能，并考慮將來進入化合物半導體業(yè)務。
值得一提的是，OXIDE近年來一直在布局碳化硅，并且此前就與JS Foundry有過合作。
2022年2月，OXIDE宣布投資4億日元（約合1900萬人民幣），用于建設專注于高質(zhì)量8英寸碳化硅襯底材料研制的工廠（第五工廠），該工廠于2023年3月在山梨地區(qū)建成。
2024年3月OXIDE于投資數(shù)十億日元，在山梨縣北杜市新建了襯底的量產(chǎn)線。Oxide制造的襯底運用名古屋大學的晶體生成技術，可將殘次品減少20%。JS Foundry已決定采用Oxide制造的襯底。到2027年前，將在新瀉縣內(nèi)的工廠啟動碳化硅功率半導體的量產(chǎn)。
2024年9月，OXIDE在ICSCRM2024上展示世界上首個使用溶液法制造的8英寸SiC單晶樣品。
source：OXIDE
雙方此次合作將促進日本地區(qū)產(chǎn)業(yè)的協(xié)同效應，通過整合雙方的技術優(yōu)勢和制造資源，加速碳化硅材料的研發(fā)和生產(chǎn)進程，進一步加強企業(yè)的市場競爭力。（集邦化合物半導體Morty整理）
更多SiC和GaN的市場資訊，請關注微信公眾賬號：集邦化合物半導體。