晶能發(fā)布太乙混合功率器件,采用SiC&IGBT并聯(lián)設(shè)計(jì)
11月12日,據(jù)晶能微電子官微消息,由吉利汽車集團(tuán)中央研究院新能源開發(fā)中心、技術(shù)規(guī)劃中心、電子電器中心和零部件產(chǎn)業(yè)中心攜手行業(yè)內(nèi)零部件、半導(dǎo)體企業(yè)及高校、科研院所共同舉辦的“吉利汽車功率半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新平臺”揭牌儀式于11月4日舉行。
source:晶能
揭牌儀式上,平臺發(fā)布了首期成果——太乙混合功率器件。太乙混合功率器件為平臺首期合作伙伴晶能、意法半導(dǎo)體等聯(lián)合開發(fā)的平臺化方案,采用SiC&IGBT 并聯(lián)設(shè)計(jì),峰值功率可拓展150-260kw,系統(tǒng)尺寸僅為A4紙大小,出流能力超過430A。
三菱電機(jī)提供用于xEV的SiC-MOSFET裸片樣品
11月12日,據(jù)三菱電機(jī)官微消息,三菱電機(jī)將于11月14日開始提供用于電動(dòng)汽車(EV)、插電式混合動(dòng)力汽車(PHEV)和其他電動(dòng)汽車(xEV)電驅(qū)逆變器的碳化硅(SiC)金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MOSFET)裸片樣品,這是三菱電機(jī)首款標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格的SiC-MOSFET功率半導(dǎo)體芯片。這款用于xEV的新型SiC-MOSFET裸片結(jié)合了特有的芯片結(jié)構(gòu)和制造技術(shù),有助于提升逆變器性能、延長續(xù)航里程和提高xEV的能源效率。
source:三菱電機(jī)
據(jù)介紹,三菱電機(jī)于1997年開始量產(chǎn)用于xEV的功率半導(dǎo)體模塊,并已應(yīng)用于各種電動(dòng)汽車(EV)和混合動(dòng)力電動(dòng)汽車(HEV)。2024年3月,其開始供應(yīng)J3系列xEV功率半導(dǎo)體樣品,該系列產(chǎn)品采用最新壓注模(T-PM)技術(shù)實(shí)現(xiàn)小型化設(shè)計(jì),在汽車市場得到廣泛應(yīng)用。
三菱電機(jī)的新型功率半導(dǎo)體芯片是一種特有的溝槽柵SiC-MOSFET,與傳統(tǒng)的平面柵SiC-MOSFET相比,其功率損耗降低了約50%。特有的制造技術(shù),如抑制功率損耗和導(dǎo)通電阻波動(dòng)的柵極氧化膜工藝,讓新款芯片更加耐久穩(wěn)定,有助于提高逆變器的耐用性和xEV性能。
悉智科技推出車載OCDC混合功率模塊
11月13日,據(jù)悉智科技官微消息,悉智科技近日推出自主創(chuàng)新的下一代車載OCDC混合功率模塊,實(shí)現(xiàn)全國產(chǎn)化Si/SiC器件導(dǎo)入。
source:悉智科技
據(jù)介紹,國內(nèi)車企關(guān)注OCDC體積,國內(nèi)OCDC目前量產(chǎn)方案中絕大部分采用立體水道器件底部散熱,包括傳統(tǒng)單管方案和鋁基板方案兩種,悉智科技推出的下一代OCDC功率模塊適用于立體水道。(集邦化合物半導(dǎo)體Zac整理)
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]]>據(jù)悉,本輪融資主要用于功率半導(dǎo)體模塊的研發(fā)投入、產(chǎn)線建設(shè)以及技術(shù)團(tuán)隊(duì)搭建等方面。
晶能CEO潘運(yùn)濱表示,明年將有多款產(chǎn)品開始裝車。
晶能成立于2022年,法定代表人為潘運(yùn)濱,注冊資本1000萬元,由吉利邁捷投資有限公司、杭州粒辰企業(yè)管理合伙企業(yè)共同持股。經(jīng)營范圍包括電子元器件制造;電子元器件與機(jī)電組件設(shè)備銷售;半導(dǎo)體分立器件制造;半導(dǎo)體分立器件銷售;集成電路芯片設(shè)計(jì)及服務(wù)等。
圖片來源:拍信網(wǎng)正版圖庫
公司以逆變器功率模塊為切入點(diǎn),通過“芯片設(shè)計(jì)+模塊制造+車規(guī)認(rèn)證”的組合能力,開發(fā)車規(guī)級IGBT芯片及模塊、SiC器件、中低壓MOSFET等產(chǎn)品,服務(wù)于新能源汽車、電動(dòng)摩托車、光伏、儲能等“雙碳”產(chǎn)業(yè)場景。
當(dāng)下,汽車功率半導(dǎo)體材料正在由硅轉(zhuǎn)向碳化硅,碳化硅逐漸成為功率半導(dǎo)體行業(yè)的重要發(fā)展方向。碳化硅應(yīng)用在新能源汽車上,可以大大提高電能利用率,讓汽車的系統(tǒng)效率更高,減少能量損耗。電動(dòng)汽車采用碳化硅芯片還可以減少零部件的數(shù)量,讓車更輕,結(jié)構(gòu)更緊湊,既能節(jié)省成本,又可以在一定程度上提升續(xù)航里程。
市場規(guī)模方面,TrendForce集邦咨詢預(yù)估,2022年車用碳化硅功率元件市場規(guī)模將達(dá)到10.7億美元,至2026年將攀升至39.4億美元。(文:集邦化合物半導(dǎo)體 Amber整理)
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]]>目前,Mini高清顯示屏RGB方案主要有三種:
① 普通藍(lán)寶石正裝方案:R采用垂直正極性紅光芯片,G、B采用普通正裝水平芯片;
② 倒裝方案的R采用倒裝結(jié)構(gòu)紅光芯片,G、B采用倒裝結(jié)構(gòu)芯片;
③ 垂直方案的R采用正極性或者反極性紅光,G、B采用垂直結(jié)構(gòu)芯片。
普通正裝和倒裝已為大家熟知,而垂直結(jié)構(gòu)通常是指經(jīng)過襯底剝離的薄膜LED芯片,襯底剝離后邦定新的基板或者可以不邦定基板,做成垂直芯片。
對應(yīng)屏的不同間距,三種方案優(yōu)劣勢也很明顯:
P0.9-P1.25mm間距現(xiàn)階段是普通正裝水平芯片的舞臺,憑借價(jià)格低的優(yōu)勢,占據(jù)主要市場,垂直和倒裝方案亦可實(shí)現(xiàn),但更多聚焦高端應(yīng)用市場。不過,綜合來看,倒裝方案相對垂直方案的RGB一組芯片價(jià)格高約2倍。
P0.6-P0.9mm間距的應(yīng)用上,普通正裝方案由于物理空間極限限制基本很難量產(chǎn),倒裝和垂直方案皆可滿足要求。但是,倒裝方案需增加大批設(shè)備,而垂直方案封裝工藝成熟度高,現(xiàn)有封裝廠設(shè)備可以通用。此外,一組RGB垂直芯片成本是倒裝芯片的1/2。
而在更小的P0.3-P0.6mm間距的應(yīng)用上,倒裝芯片工藝面臨較大的挑戰(zhàn),垂直結(jié)構(gòu)方案因工藝的優(yōu)勢可以較好地實(shí)現(xiàn)。
關(guān)鍵詞一 殺死“毛毛蟲”
越小間距的顯示屏越容易遇到“毛毛蟲”的侵蝕,大部分的毛毛蟲是由金屬遷移導(dǎo)致。2018年1010器件出現(xiàn)的嚴(yán)重金屬遷移問題,引起業(yè)界廣泛的關(guān)注和廠商的重視。
一般使用條件下,LED芯片電極的金屬不會遷移,但隨著芯片尺寸越來越小,加上濕度和溫度、電解質(zhì)深度等引發(fā)電位差發(fā)生變化,在芯片表面的P、N區(qū)域間、燈內(nèi)PCB導(dǎo)電線條間,燈外電極與線條間,以及模組PCB電極或線條間,只要存在這種電位差,潛在的金屬遷移趨勢就已經(jīng)形成,而且往往從最薄弱(即距離電小電位差最大)的地方首先發(fā)生遷移,造成漏電。對于各種RGB方案來說,我們所能做的,只是設(shè)法延長從開始形成遷移的趨勢到因遷移而導(dǎo)致產(chǎn)品失效的過程時(shí)間而已。
圖1 不同位置金屬遷移典型示例
圖2 金屬遷移原理圖
如果要避免或減少離子遷移,需要滿足以下幾點(diǎn):
1、PN區(qū)電極之間的距離L:L越大越不易遷移,或者相同條件下要經(jīng)過相對更長的時(shí)間才能形成遷移失效;
2、電位差U:U越小電化學(xué)反應(yīng)速度越慢,越不易形成遷移,消隱電壓越低越不容易形成遷移;
3、濕度RH:RH越低越干燥電化學(xué)反應(yīng)速度V越慢,越不易形成遷移,70 RH是警戒線;
4、電解質(zhì)濃度:電極或不同電位線條之間的電解質(zhì)雜質(zhì)濃度越低,越潔凈越不易形成遷移;
5、溫度T:T越低,電化學(xué)反應(yīng)速率越小,越不易形成遷移。
垂直結(jié)構(gòu)方案在解決金屬遷移問題上有天然的優(yōu)勢。其優(yōu)勢主要有三:
一是垂直結(jié)構(gòu)芯片正負(fù)極之間距離大于135μm,而正裝水平結(jié)構(gòu)芯片會隨著芯片尺寸的減小,其正負(fù)極距離越來越小,如6×8mil芯片電極間距68μm,而4×5.5mil芯片電極間距就小至26μm了。由于正負(fù)極在物理空間的距離較大,即使假設(shè)發(fā)生金屬離子遷移后,垂直芯片燈珠壽命會比水平芯片高4倍以上,極大地提高了產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。
二是垂直結(jié)構(gòu)的藍(lán)綠芯片表面為全惰性金屬電極Ti/Pt/Au,較難發(fā)生金屬遷移,主要性能與紅光垂直芯片一樣,而水平芯片電極材料使用ITO/Cr/Al,這些材料活性較強(qiáng),極容易發(fā)生金屬遷移。
三是普通正裝水平芯片主要使用絕緣膠,散熱性極差,且芯片尺寸越小,燈內(nèi)溫度越高;而垂直結(jié)構(gòu)芯片采用銀膠,導(dǎo)熱性能好,燈內(nèi)溫度相對于正裝水平低很多,可以大幅度降低金屬離子遷移速度。
圖3 水平電極結(jié)構(gòu)因電極間距和溝道寬度小極易發(fā)生PN區(qū)金屬遷移
圖4 垂直電極結(jié)構(gòu)較好的間距空間大幅度降低正負(fù)極金屬遷移
關(guān)鍵詞二:高性價(jià)比
性價(jià)比是商家規(guī)模應(yīng)用的決定因素。
在顯示效果方面,相比正裝結(jié)構(gòu),垂直結(jié)構(gòu)的芯片是單面發(fā)光、無側(cè)光,隨著間距變小,產(chǎn)生的光干擾會更少。也就是說,間距越小,亮度損失越少,因此,垂直芯片相對于正裝水平芯片的亮度有大幅度提高;而且垂直結(jié)構(gòu)由于RGB三色都是單面出光,相對于普通正裝和普通倒裝結(jié)構(gòu)的五面出光,RGB三個(gè)顏色不會出現(xiàn)混光,從而在顯示清晰度方面更勝一籌(此為Micro顯示的芯片必然要去襯底的原因之一)。
圖5 垂直結(jié)構(gòu)與正裝水平的結(jié)構(gòu)芯片亮度測試數(shù)據(jù)
在生產(chǎn)良率方面,垂直結(jié)構(gòu)相比普通正裝結(jié)構(gòu)還能少打兩根線,器件內(nèi)打線面積更充足,可有效增加設(shè)備產(chǎn)能,可以使器件由于焊線原因造成的不良下降一個(gè)數(shù)量級。
圖6 普通正裝RGB(左)需要打5根線,垂直結(jié)構(gòu)RGB(右)只需打3根線
成本上,垂直結(jié)構(gòu)藍(lán)綠LED芯片可以采用最普通的垂直結(jié)構(gòu)紅光LED芯片,對于高端應(yīng)用或更小間距的屏而言,一組RGB垂直結(jié)構(gòu)芯片成本是倒裝芯片的1/2。同時(shí),垂直結(jié)構(gòu)方案封裝工藝成熟度高,現(xiàn)有封裝廠設(shè)備可以完全通用,無需投入新設(shè)備,但倒裝方案就需要增加大批設(shè)備,封裝良率提升難度極大。綜合來看,現(xiàn)階段垂直結(jié)構(gòu)方案是Mini顯示推進(jìn)千家萬戶的最優(yōu)選擇。
關(guān)鍵詞三:不止于Mini
晶能認(rèn)為顯示的本質(zhì)是像素,芯片結(jié)構(gòu)和尺寸只是實(shí)現(xiàn)的手段,因此,晶能建議按照像素間距來定義Mini LED和Micro LED顯示,即將P0.3-P1.25或者1.5mm歸類為Mini LED,P0.3mm以下歸類為Micro LED。
現(xiàn)階段,晶能垂直方案已經(jīng)量產(chǎn)了硅襯底垂直芯片尺寸在5×5mil至7×7mil的藍(lán)綠Mini LED芯片,未來在2021年第四季度會量產(chǎn)4×4mil垂直芯片,再匹配正極性或反極性紅光LED芯片。
針對不同間距主要包括三種方案:P1.25mm的1010單顆封裝產(chǎn)品、P1.25mm至P0.625mm間距IMD 4合1及COB產(chǎn)品。這些方案可制造全垂直結(jié)構(gòu)LED芯片的超高清全彩顯示屏,主要應(yīng)用在戶內(nèi)顯示、高清娛樂、遠(yuǎn)程視頻會議等場景。
晶能光電根據(jù)客戶端的驗(yàn)證發(fā)現(xiàn),5×5mil產(chǎn)品能夠滿足顯示屏的各項(xiàng)參數(shù)指標(biāo),相比藍(lán)寶石方案可達(dá)到更高的亮度水平。同時(shí),還能夠?qū)崿F(xiàn)更高的設(shè)備稼動(dòng)率和效率,并有效避免金屬遷移所造成的屏幕壞點(diǎn),即毛毛蟲等失效異常。
而對于P0.3-P0.6Mini顯示,晶能光電也提出了可行的方案,使用其多年研發(fā)的Micro芯片技術(shù)的70%,即用Micro級別的硅襯底LED材料去除襯底后,制成3-5μm厚的薄膜藍(lán)綠芯片,做成2×4mil的自帶焊接金屬柱的薄膜倒裝結(jié)構(gòu)(TFFC)芯片或者2.5×2.5mil薄膜垂直結(jié)構(gòu)(VTF)芯片,紅光采用藍(lán)光搭配QD量子膜或硅襯底GaN紅光薄膜芯片。該方案由于芯片尺寸遠(yuǎn)大于Micro LED芯片(5-40um),相對于Micro LED技術(shù)難度大幅度降低,預(yù)計(jì)未來2-3年內(nèi)能夠量產(chǎn)。
圖7 P0.3-P0.6的TFFC方案(左)和VTF方案(右)
小結(jié)
當(dāng)前,顯示領(lǐng)域也是多種技術(shù)和方案并存,選擇哪種方案取決于終端客戶的需求。但無論如何,超大顯示屏的發(fā)展必定會對顯示產(chǎn)品的性能與成本效益提出越來越高的要求。未來會有怎樣的變化暫且不說,但垂直結(jié)構(gòu)RGB技術(shù)的潛力已經(jīng)顯而易見。(文:LEDinside)
感謝晶能光電為本文提供技術(shù)內(nèi)容
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