氧化鎵(Ga?O?):新興材料的無限潛力

作者 | 發(fā)布日期 2025 年 01 月 31 日 17:59 | 分類 功率

隨著半導體技術(shù)的飛速發(fā)展,寬禁帶半導體材料逐漸成為未來技術(shù)的關(guān)鍵,而氧化鎵(Ga?O?)正是其中的佼佼者。憑借其優(yōu)異的特性,氧化鎵正在改變功率電子器件和光電探測領(lǐng)域的格局。

氧化鎵的定義氧化鎵(Gallium Oxide,Ga?O?)是一種化學式為 Ga?O? 的無機化合物,是鎵的氧化物。它具有寬禁帶、高擊穿電場和優(yōu)異的化學穩(wěn)定性,是一種重要的寬禁帶半導體材料。特性:·CAS Number:12024-21-4·分子量:187.44 g/mol熔點:1900 °C (約)·外觀:通常為白色或淡黃色粉末或晶體·密度:6.44 g/cm3·溶解性:不溶于水,但可溶于強酸。

氧化鎵的特性與應(yīng)用氧化鎵是一種寬禁帶半導體材料,其帶隙寬度高達 4.8 eV,遠超傳統(tǒng)的硅(1.1 eV)和碳化硅(3.3 eV)。這種特性使得氧化鎵在以下領(lǐng)域具有顯著優(yōu)勢:功率電子器件:氧化鎵具備高擊穿電場,能夠制造出更高效率、更小尺寸的功率器件,如高壓開關(guān)和高功率變換器。紫外探測器:由于其對紫外光的高敏感性,氧化鎵被廣泛用于紫外光傳感和安全檢測。透明電子器件:氧化鎵具有優(yōu)異的透明性,可應(yīng)用于透明顯示和導電膜。

氧化鎵在韓國的市場現(xiàn)狀韓國作為全球半導體和顯示產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)導者,對氧化鎵的研發(fā)和應(yīng)用極為重視。在韓國,氧化鎵的流通主要體現(xiàn)在以下幾個方面:研發(fā)與技術(shù)合作:韓國多所大學和研究機構(gòu)正在積極研究氧化鎵的制備方法、晶體生長技術(shù)和器件應(yīng)用。

例如,韓國科學技術(shù)院(KAIST)和三星電子正在開發(fā)基于氧化鎵的新型功率器件。進口與供應(yīng)鏈:氧化鎵的高質(zhì)量晶體主要依賴于全球供應(yīng)鏈。韓國企業(yè)通過從日本、美國等地進口氧化鎵晶體和靶材,用于國內(nèi)的半導體制造和科研項目。市場前景:隨著5G基站、新能源汽車充電設(shè)備等需求的增加,氧化鎵在功率電子器件中的應(yīng)用潛力被進一步激發(fā)。韓國企業(yè)正在加大對氧化鎵器件的投資,力圖在未來市場中占據(jù)一席之地。

氧化鎵的挑戰(zhàn)與機遇盡管氧化鎵有諸多優(yōu)勢,但在生產(chǎn)和應(yīng)用中仍面臨一些挑戰(zhàn):晶體生長難度:高質(zhì)量氧化鎵單晶的生長技術(shù)尚未完全成熟,生產(chǎn)成本較高。器件可靠性:氧化鎵器件在高功率、高溫環(huán)境下的長期穩(wěn)定性需要進一步驗證。然而,隨著技術(shù)的進步,這些問題正在逐步得到解決。韓國的企業(yè)和科研機構(gòu)正在不斷推動氧化鎵產(chǎn)業(yè)鏈的完善,從晶體生長、材料加工到器件制造,力圖實現(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈的本地化。

結(jié)語氧化鎵(Ga?O?)作為新興的寬禁帶半導體材料,正在引領(lǐng)技術(shù)革命。從功率電子到光電探測,氧化鎵展現(xiàn)了廣闊的應(yīng)用前景。在韓國,隨著科研投入的增加和市場需求的推動,氧化鎵產(chǎn)業(yè)正逐步壯大。對于未來,氧化鎵不僅僅是一種材料,更是一種開啟新技術(shù)時代的鑰匙。(來源:Lumim)

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